中国は、３中全会の声明で「新たな質の生産力」の追求を強調した。これは、習近平国家主席が昨年提唱したスローガンで、科学的な研究と進歩革新を通じて製造業を現代化し、新たな高成長時代を促進することを意味する。だが、米中対立によって「デリスキング」（リスク削減）が進んでいる。この制約を突破すべく、中国は「技術窃取」に力を入れている。その一環として、オランダへの留学生が急増している。
中国の狙いは、最先端半導体製造設備メーカーのＡＳＭＬが、技術面で支援するアイントホーフェン工科大へ留学生を増やすことだ。留学生を装って、最先端半導体製造設備のノウハウを窃取できれば、これほど容易な方法はない。これに気付いた米国が、オランダへ圧力をかけ中国人留学生増加にストップを掛けている。
『朝鮮日報』（７月２２日付）は、「半導体技術の流出恐れる米国、オランダに中国留学生受け入れ削減を要求」と題する記事を掲載した。
オランダの半導体製造設備大手ＡＳＭＬが、支援する同国のアイントホーフェン工科大への中国人学生の入学にブレーキがかかった。先端半導体製造に必須の重要装備を供給するＡＳＭＬの技術が中国に流出することを懸念した米国のけん制があったためだ。
（１）「１６日のブルームバーグ電によると、最近米国の駐オランダ大使は昨年、アイントホーフェン工科大のロバート・ヤン・スミッツ学長に中国人の入学が多い理由を尋ねたという。ＡＳＭＬの本社から約8キロの地点にあるアイントホーフェン工科大はＡＳＭＬが人材育成のために肩入れした大学だ。研究用設備を寄付し、半導体研究に欠かせない防塵設備の設置に８０００万ユーロ（約１３７億円）を投資した」
ＡＳＭＬが、支援してつくった工科大となれば，中国がめざとく留学生を送ってくるのは当然であろう。
（２）「スミッツ学長はブルームバーグに対し、「中国の学生に門戸を開放しなければならないということではない」とし、今後中国の学生を減らす意向を伝えた。アイントホーフェン工科大は、中国人学生の数を明らかにしていないが、学生の4分の1は外国人だ。そのうち相当数が中国人学生と推定される。米国がオランダの中国人留学生に対し圧力をかけるのは、先端半導体の製造にＡＳＭＬの設備が欠かせないためだ。極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィー（露光）装置はＡＳＭＬが事実上独占しているが、米国の制裁で対中輸出が禁止されている。最近はＥＵＶの下位の装置である深紫外線（ＤＵＶ）露光装置の対中輸出も制限した。ＡＳＭＬの支援を受けて半導体研究を行う大学に中国人留学生が多いことに米国側が不満を示したのはそうした背景があるためだ」
ＡＳＭＬの製造する半導体製造装置は、米国が所有する特許を利用するために中国への輸出が抑制されている。中国にとっては、喉から手が出るほど必要な装置である。米国は、既存製品で中国へ輸出した装置のアフターサービスや部品の供給までストップさせる要求を出している。
（３）「オランダ政府も、中国を経済安全保障のリスク要因とみている。昨年、華為（ファーウェイ）の新型スマートフォンに採用された7ナノメートル製造プロセスの半導体がＡＳＭＬの技術で製造されたことが明らかになり、警戒がさらに厳しくなった。オランダ政府は昨年、半導体、国防分野の中国人留学生に対する審査制を導入することを予告したのに続き、中国の国家留学基金管理委員会（ＣＳＣ）の管理を受けている奨学生が何人で、どの分野で活動しているかについて調査を始めた。ＣＳＣの奨学金は、中国共産党に忠誠を誓わなければ受給することができず、この奨学金で留学した中国人学生は、学業を修了後２年以内に中国に帰国しなければならない」
中国は、人民解放軍と関係の深い大学や研究所に在籍した学生を留学させている。明らかに、技術窃取が目的である。米国は、オランダ政府に対して米国並みの規制をするように求めているのであろう。
